非自耗真空電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金。廣泛用于難熔金屬和高熔點(diǎn)金屬合金。適用于大專院校、科研院所真空冶煉新材料的科學(xué)研究和小批量制備。電弧熔煉真空室：真空室為立式圓柱形設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)美觀。側(cè)面有一個(gè)KF快接接口，用于安裝真空閥和輔助測(cè)量元件。真空室前面有一個(gè)小爐門，側(cè)面敞開，便于裝卸。小爐門上設(shè)有觀察窗，方便熔煉時(shí)觀察爐內(nèi)情況。上部為圓形密封雙層水冷爐蓋，帶有升降電極棒的孔。

非自耗真空電弧爐的使用特點(diǎn)

　　1、爐體全不銹鋼設(shè)計(jì)，外形美觀，不生銹。
　　2、樣品可以多樣化：樣品可以是粉末、細(xì)絲、木屑和鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、淤泥等。
　　3、熔化時(shí)間短：大多數(shù)金屬材料的加熱和重熔時(shí)間在一分鐘以內(nèi)。
　　4、電弧熔煉可以使樣品充分混合。
　　5、陽(yáng)極采用鎢電極；電極壽命長(zhǎng)。
　　6、坩堝為銅制，同時(shí)水冷。
　　7、使用惰性氣體保護(hù)，一般為普通氬氣，或結(jié)合真空方式。
　　8、采用立式側(cè)門結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)新穎，裝卸方便，操作直觀。
　　9、配備大口徑觀察窗，可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)熔煉情況。
　　10、熔煉溫度高，溫度可達(dá)3500度以上。
　　11使用電弧熔煉電源。
　　12、桌面設(shè)計(jì)，操作方便。
　　13、配備操作模擬屏，控制數(shù)據(jù)直觀顯示，操作直觀簡(jiǎn)單。
　　14、高真空設(shè)計(jì)，真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上。
　　15、自帶冷水機(jī)，到貨即用。
　　16、使用過(guò)溫保護(hù)，加濾光玻璃保護(hù)眼睛。
　　17、水冷銅電極可360度，操作靈活。同時(shí)，水冷坩堝體積小，可更換，可定制。